中国5纳米芯片光刻机

EUV光刻机死对头出现!日本佳能实现5nm量产,并计划迈向2nm芯片

导读:EUV光刻机死对头出现!...然而,最近一项技术的突破让ASML的霸主地位受到了前所未有的挑战—日本佳能公司在纳米压印技术(NIL)方面取得了重大进展,不仅实现了5纳米芯片的量产,还计划在未来实现2纳米芯片的制造。...

全球光刻机巨头业绩爆雷:卖不动了?中国市场爱而难得

换言之,晶圆厂要生产7纳米以下先进制程的芯片,只能找阿斯麦要光刻机。...此前,中国大陆已经无法购买阿斯麦最先进的EUV光刻机,去年在美国施压下,荷兰进一步升级管制,从今年1月1日起限制阿斯麦对华提供中高端的DUV光刻机。...

阿斯麦High-NA EUV光刻机取得突破 成功印刷10纳米线宽图案

格隆汇4月18日|荷兰阿斯麦公司宣布,其首台采用0.55数值孔径(NA)投影光学系统的高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻机已经成功印刷出首批图案,这标志着ASML公司以及整个高数值孔径EUV光刻技术领域的一项重大里程碑。

ASML High-NA EUV光刻机取得重大突破:成功印刷10纳米线宽图案

英特尔公司则将利用其 Twinscan EXE:5000 型光刻机学习如何使用高数值孔径 EUV 光刻技术进行芯片量产。英特尔计划将其用于其 18A(1.8nm 级)制程工艺的研发,并将在未来的 14A(1.4nm 级)制程产线中部署下一代 Twinscan EXE:...

首台商用High NA EUV光刻机完成组装,将助力Intel 14A工艺开发

英特尔买进的这台最新EUV光刻机是阿斯麦最新一代光刻机的第一台,3.5亿欧元,据说可以高良率的生产1-2纳米芯片,目前...直接把台积电,三星,的3-5纳米芯片甩在后面,高端芯片台积电占80%,三星15%,英特尔来了,台积电危也,… ...

阿斯麦 High-NA EUV 光刻机取得重大突破,成功印刷 10 纳米线宽图案

英特尔公司则将利用其 Twinscan EXE:5000 型光刻机学习如何使用高数值孔径 EUV 光刻技术进行芯片量产。英特尔计划将其用于其 18A(1.8nm 级)制程工艺的研发,并将在未来的 14A(1.4nm 级)制程产线中部署下一代 Twinscan EXE:...

比原子弹还稀少,全球就两个国家掌握,光刻机为什么这么难造?

说起来,中国之所以一直没有办法自行制造光刻机,就是因为我国目前没有办法生产符合要求的光刻机零件,虽然我国现在也有用于生产制造半导体芯片光刻机,但是这些光刻机上的绝大多数了零件都是从日本以及德国进口的,如果不...

汪波:芯片如何改变世界,其未来发展又面临哪“三堵墙”

EUV的光刻机没法出口到中国,还有疫情期间我们的很多汽车厂商由于缺少芯片而被迫减产甚至停产等...我们讲到了3纳米的芯片,未来还可能是1纳米、0.5纳米的,在这么小的尺寸下,我们要通过非常短波长的光刻机才能制造出来这些芯片。...

中国首台国产5纳米光刻机问世,突破半导体制造核心技术|

中国首台国产5纳米光刻机问世,突破半导体制造核心技术 光刻机作为半导体制造中的核心设备,其精度和稳定性直接决定了芯片的性能和质量。长期以来,我国在这一领域一直依赖进口设备,不仅面临着技术封锁和价格垄断的风险,也...

EUV光刻机破局者初现?才实现5nm量产,又将剑指2nm芯片|佳能|纳米|euv_网易订阅

从这一点来看,纳米压印设备的出现不仅将会打破如今EUV光刻机在高端芯片生产领域的垄断,同时还能够进一步推动全球芯片产业链在先进制程方面的发展。从目前传出的消息来看,佳能准备在2024年实现5nm制程的纳米压印设备量产,在...